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Robustness of the quantum Hall effect, sample size versus sample topology, and quality control management of III-V molecular beam epitaxy

机译:量子霍尔效应的稳健性,样本大小与样本的对比   III-V分子束外延的拓扑结构和质量控制管理

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摘要

We measure the IQHE on macroscopic (1.5cm x 1.5cm) "quick 'n' dirty" preparedIII-V heterostructure samples with van der Pauw and modified Corbino geometriesat 1.3 K. We compare our results with (i) data taken on smaller specimens,among them samples with a standard Hall bar geometry, (ii) results of ournumerical analysis taking inhomogenities of the 2DEG into account. Our mainfinding is a confirmation of the expected robustness of the IQHE which favoursthe development of wide plateaux for small filling factors and very largesample sizes (here with areas 10,000 times larger than in standardarrangements).
机译:我们使用van der Pauw和改良的Corbino几何尺寸在1.3 K下对宏观(1.5cm x 1.5cm)“快速'n'脏”制备的III-V异质结构样品进行IQHE测量。我们将结果与(i)对较小样品的数据进行比较,其中包括具有标准霍尔棒几何形状的样品,(ii)考虑2DEG不均匀性的数值分析结果。我们的主要发现是对IQHE预期稳健性的确认,这有利于为小填充因子和非常大的样本量(此处的面积比标准布置大10,000倍)开发宽平台。

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